大日本印刷 45nm対応のフォトマスク最新鋭製造ラインを京都に増設
最先端フォトマスクの生産体制を強化
大日本印刷株式会社（本社:東京 社長:北島義俊 資本金:1,144億円、以下:DNP）は、45nmの最先端フォトマスクの量産に対応した最新鋭製造ラインを京都（京都府京都市南区）に建設します。
この新ラインは、現在、国内フォトマスク製造拠点の一つである京都工場の敷地内に、新たに45nm対応の専用棟を建設して、増設するものです。
【背景】
半導体メーカーは、パソコンや各種OA機器の高機能化、低消費電力化、小型化などの要望に応えるために、回路パターンの更なる微細化を進める高集積化を目指し、90nm、65nmレベルの量産を行うとともに、次世代の45nmに対応した製品の開発に努めています。
DNPは、1961年に半導体用回路原版であるフォトマスクの事業を開始から、一貫して最先端の微細加工技術の開発に取り組み、業界をリードするフォトマスクの大手メーカーです。半導体メーカーの微細化に対応して、現在、65nm、90nmの最先端フォトマスクでトップシェアを誇るとともに、45nmに対応したフォトマスクの開発に取り組んできました。
DNPはこれまで、最先端フォトマスクの開発、製造を埼玉県上福岡工場で行っていますが、今後の、最先端フォトマスクの更なる需要増への対応と、災害時のリスク分散を考慮して、京都に新設備を導入することとしました。
【新工場の概要】
新工場は、建築面積1743平米、延べ床面積5752平米、微振動対策免震構造の鉄骨4階建で、クリーン度としては、最高水準であるClass-1環境のクリーンルームを完備しています。建物、製造設備、付帯設備をあわせて、投資額は160億円です。2006年12月に着工し、2008年1月の稼働開始を予定しています。
新工場建設によりDNPは、国内の上福岡工場、京都工場の2拠点から、45nmに対応した最先端フォトマスクを国内・海外に供給します。供給体制をより強化することで、今後増加する最先端フォトマスクのシェアの更なる拡大を目指します。